tio2基复合材料制备及其光催化性能研究
目 录
1 绪论 1
1.1 研究背景 1
1.2 二氧化钛光催化概况 2
1.3 二氧化钛纳米结构的主要制备方法 3
1.4 TiO2光催化的发展与应用 5
1.5 本论文的目的和主要研究内容 6
2 实验部分 7
2.1 主要试剂与仪器 7
2.2 实验方法 8
3 实验结果与分析 14
3.1 场发射扫描电镜(FESEM)分析 14
3.2 TiO2/WO3复合材料EDX成分分析 18
3.3 光催化实验分析 19
结 论 22
致 谢 23
参 考 文 献 24
1 绪论
1.1 研究背景
随着经济的发展和工业化的提高,工业污水、生活污水的排放不仅在数量上越来越大,而且污染物的种类也越来越多。环境受到了很大的影响,社会发展也受到了制约。近几年来,污水处理和空气净化引起了人们的广泛关注。目前,常见的污水处理方法一般可分为化学法、物理法、生物法,而这些方法都存在成本高且二次污染的问题。为了环境的可持续发展,开发出一种经济、无污染的处理污水技术是十分紧迫的任务。
光催化是指具有特 *景先生毕设|www.jxszl.com +Q: #351916072#
定波长的光照在半导体材料上,将太阳能转化为化学能,从而达到合成化合物或分解有机物、无机物的效果。它有着温和的反应条件、较快的处理速率,不产生二次污染并且分解污染物比较彻底,在处理难降解、有毒的有机物方面具有巨大作用。因此光催化技术与传统的水处理技术相比具有独特的优势。半导体光催化技术所利用的太阳光不受地域限制,催化剂通过吸收太阳光中的光波将太阳能转化为化学能,降低了处理成本,在许多的绿化项目和可再生能源项目中成为了新的研究热点。光催化技术应用前景十分广泛,目前,主要的应用领域有:a)水处理;b)空气净化;c)杀菌消毒;d)光解水制H2;e)光电化学转化等。光降解污染物作为新的研究领域在近几十年发展起来,但实际的工业应用却非常少,目前仍旧只是停留在实验室水平上。因此,我们急需对光催化在实际工业中的应用进行深入的研究。
光催化以N型半导体材料作为催化剂,研究较多的材料如TiO2、CdS、ZnO等,而TiO2由于化学稳定、耐光腐蚀、氧化能力强、光催化活性高、光催化反应的驱动力大,且成本低、无毒、无二次污染,高效又环保[1,2],因此在众多催化剂中TiO2是应用最为活泼的,已成为工业、学术研究热点。光催化氧化始于上世纪60年代[3,4],是一种高级氧化过程,但直到1972年,日本科学家Fujishima和Honda[5]在nature上发表了一篇关于以TiO2薄膜为电极利用光能分解水制备氢气的论文,才引起了学术界的广泛关注,这大大推动了TiO2在光催化领域的发展,为多相光催化的研究开创了先河。1976年,Garey[6]等报道了在紫外线照射下TiO2可降解水中的难降解污染物,从此以后,半导体TiO2在污水处理、空气净化等领域发展起来。如今,TiO2被积极应用于空气净化、制氢、污水处理、医疗技术、金属的防护与腐蚀、环保材料等方面。
1.2 二氧化钛光催化概况
1.2.1 二氧化钛光催化基本原理
1995年,Hoffmann[7]等人提出了光催化的一般机理,奠定了光催化反应的理论基础。
TiO2是常见光催化剂,光催化过程包括两个同时发生的反应:1)氧化产生空穴;2)还原产生电子[8]。从能带电子理论可知,半导体的能带结构是由价带和导带构成的,他们之间的能量称为禁带宽度。当用能量大于或等于TiO2禁带宽度的光照在TiO2表面时,价带上的电子被激发跃迁到导带形成高活性电子(e),价带上则留下相应的空穴(h+),从而形成了空穴电子对(如公式11)。半导体光催化氧化反应的能力主要取决于TiO2的能带位置以及被吸附物质的还原电势。价带空穴作为氧化剂,导带电子作为还原剂[9]。由于光生空穴(h+)的多电子能力强,能与吸附在TiO2粒子表面的H2O分子和OH发生作用产生OH自由基(如公式12、13)。光生电子(e)与O2分子结合,形成O2自由基(如公式14)。具有高氧化活性的OH自由基和超氧离子O2自由基能将大多数难降解的污染物矿化(如公式15、16、17、18),还可以杀菌、除臭以及自清洁[10]。
图1.1 光催化机理图[11]
(a)光吸附以及电子空穴对的产生;(b1)电子空穴对转移至表面反应位点;
(b2)电子空穴对转移至复合位点;(c1)(c2)活性位点的表面化学反应
光催化的反应式如下:
TiO2 +h→e+h+ (11)
h++H2O→OH+H+ (12)
h++ OH→OH (13)
e+O2→O2 (14)
O2+H+→HO2 (15)
2HO2→O2+ H2O2 (16)
H2O2+O2→OH+OH+O2 (17)
R+OH+O2→CO2+ H2O+其他产物 (18)
1.2.2 二氧化钛光催化存在的问题
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